硅片去除研磨損傷深度的拋光工藝所用液體材料稱拋光液。常見的有二氧化硅拋光液及三氧化鉻拋光液。
拋光液是由多種化工溶液配制而成的溶液，它在拋光工藝中有重要的地位，合理選擇拋光液，能使加工出來的工件表面光亮美觀，色澤鮮艷，光亮奪目，還可以防止工件的銹蝕，保持與提高工件表面的光澤，起到清潔工件與磨具的作用。去除油污，軟化工件表面以加速磨消，減少磨具對工件的沖擊，改善工件條件。它具有無毒，無腐蝕，不易變質等性能。
機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等，對硅單晶片化學機械拋光（CMP）機理、動力學控制過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個復雜的多相反應，它存在著兩個動力學過程：
（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。
（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。
硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用，則拋光片表面產生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用，則表面產生高損傷層。
拋光液的種類很多，應根據加工條件來選擇。在光整效率，工作的研磨質量，拋光的光潔度等方面。拋光液都顯示出其獨特的效果。
拋光液按拋光的材質不同分為：BD-H001型低碳鋼常溫化學拋光液 BD-H201型鋁件化學拋光液 BD-H302型不銹鋼化學拋光液
BD-H001型低碳鋼常溫化學拋光液：
BD-H001型低碳鋼常溫化學拋光液對低碳鋼工件有良好的拋光效果，最佳效果能達到鏡面光亮，外觀可與裝飾鉻媲美。使用本品拋光，可提高工效，還可縮短鍍鎳時間。
BD-H201型鋁件化學拋光液是專門為提高鋁制品表面光潔度而設計的一種化學拋光液，鋁制品經過本品拋光后，可達到鏡面亮度，可作為鋁制品成品裝飾用，也可作為鋁制品表面處理過程中的中間工序使用。本品為淡藍色透明狀液體。
BD-H302型不銹鋼化學拋光液不受零件形狀、體積限制，可以改變不銹鋼制品機械損傷層和應力層，提高機械強度，效率高，表面精飾效果好。
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